公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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2009 | The RF characteristics of micromachined coplanar waveguide in 0.13 μm CMOS technology by CMOS compatible ICP dry etching | Wang, T.; Lu, S.-S.; Lin, Y.-S.; Juang, Y.-Z.; Huang, G.-W.; SHEY-SHI LU | Microwave and Optical Technology Letters |