公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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2020 | An ultra heat-resistant polyimide formulated with photo-base generator for alkaline-developable, negative-type photoresist | Tseng, L.-Y.; Lin, Y.-C.; Kuo, C.-C.; Kuo, C.-C.; Ueda, M.; WEN-CHANG CHEN | Reactive and Functional Polymers |