公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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1999 | Thermal stability of amorphous-like WNx/W bilayered diffusion barrier for chemical vapor deposited-tungsten/p(+)-Si contact system | Chang, K. M.; Deng, I. C.; Yeh, T. H.; Lain, K. D.; CHAO-MING FU | Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Short Notes & Review Papers | 4 | 4 |