公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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2001 | Sub-micron gate by optical lithography using photoresist re-flow and spin-on-glass | W.-S. Lour; M.-K. Tsai; K.-C. Chen; Y.-W. Wu; S.-W. Tan; Y. J. Yang; YING-JAY YANG | ECS, State-of-the-art Program on Compound Semiconductors XXXV |