公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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2021 | Aluminum Oxide at the Monolayer Limit via Oxidant-Free Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition on GaN | A. Henning; J. D. Bartl; A. Zeidler; S. Qian; O. Bienek; CHANG-MING JIANG ; C. Paulus; B. Rieger; M. Stutzmann; I. D. Sharp | Advanced Functional Materials | 16 | 13 |