公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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2012 | Additional Nitrogen Ion-Implantation Treatment in STI to Relax the Intrinsic Compressive Stress for n-MOSFETs | Liao, M.-H.; Chen, Chih Hua; Chang, Li Cheng; Yang, Chen; Kao, Ssu Chieh; Liao, M.-H. | IEEE Transactions on Electron Devices | 7 | 6 |