公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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2012 | Effect of substrate bias on the promotion of nanocrystalline silicon growth from He-diluted SiH 4 plasma at low temperature | Das, D.; Raha, D.; Chen, W.-C.; Chen, K.-H.; Wu, C.-T.; Chen, L.-C. | Journal of Materials Research | 12 | 10 |