https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/289057
標題: | Effects of slurry formulations on chemical-mechanical polishing of low dielectric constant polysiloxanes: Hydrido-organo siloxane and methyl silsesquioxane | 作者: | Chen, W.-C. Yen, C.-T. WEN-CHANG CHEN |
公開日期: | 2000 | 卷: | 18 | 期: | 1 | 起(迄)頁: | 201-207 | 來源出版物: | Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0033715453&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/289057 |
DOI: | 10.1116/1.591173 |
顯示於: | 化學工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。