https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/292807
標題: | New CVD source reagents for osmium thin film deposition | 作者: | Yu, H.-L. Chi, Y. Liu, C.-S. Peng, S.-M. Lee, G.-H. SHIE-MING PENG |
公開日期: | 2001 | 卷: | 7 | 期: | 6 | 起(迄)頁: | 245-248 | 來源出版物: | Chemical Vapor Deposition | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0001503617&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/292807 |
DOI: | 10.1002/1521-3862(200111)7:6<245 |
顯示於: | 化學系 |
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