https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/315733
標題: | MBE-grown high $κ$ gate dielectrics of HfO 2 and (Hf-Al) O 2 for Si and III-V semiconductors nano-electronics | 作者: | Lee, WC Lee, YJ Wu, YD Chang, P Huang, YL Hsu, YL Mannaerts, JP Lo, RL Chen, FR Maikap, S others MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2005 | 卷: | 278 | 期: | 1 | 起(迄)頁: | 619-623 | 來源出版物: | Journal of Crystal Growth | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/315733 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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