https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/331415
標題: | Structural and electrical characteristics of atomic layer deposited high kappa HfO2 on GaN | 作者: | Chang, YC Chiu, HC Lee, YJ Huang, ML Lee, KY Hong, M Chiu, YN Kwo, J Wang, Yeong-Her others MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2007 | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/331415 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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