https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/340175
標題: | Achieving a low interfacial density of states in atomic layer deposited Al 2 O 3 on In 0.53 Ga 0.47 As | 作者: | Chiu, HC Tung, LT Chang, YH Lee, YJ Chang, CC Kwo, J Hong, M MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2008 | 卷: | 93 | 期: | 20 | 起(迄)頁: | 202903 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/340175 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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