https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/340839
標題: | Improving electrical properties of ZnO thin films by the combination of plasma treatment, post-annealing and doping | 作者: | Shie, T.-Y. Lin, C.-F. CHING-FUH LIN |
公開日期: | 2008 | 起(迄)頁: | 756-759 | 來源出版物: | 2008 8th IEEE Conference on Nanotechnology, IEEE-NANO | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-55349092026&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/340839 |
DOI: | 10.1109/NANO.2008.226 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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