https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/349438
標題: | Molecular beam epitaxy-grown Al 2 O 3/HfO 2 high-$κ$ dielectrics for germanium | 作者: | Lee, WC Chin, BH Chu, LK Lin, TD Lee, YJ Tung, LT Lee, CH Hong, M Kwo, J MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2009 | 卷: | 311 | 期: | 7 | 起(迄)頁: | 2187-2190 | 來源出版物: | Journal of Crystal Growth | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/349438 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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