https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/357459
標題: | Lattice strain and in situ chemical depth profiling of nanometer-thick molecular beam epitaxy grown Y2O3 epitaxial films on Si (111) | 作者: | Lee, YJ Lee, WC Huang, ML Wu, SY Nieh, CW Hong, M Kwo, J Hsu, CH MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2010 | 卷: | 28 | 期: | 3 | 起(迄)頁: | C3A17 | 來源出版物: | Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/357459 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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