https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/357471
標題: | Effective reduction of interfacial traps in Al 2 O 3/GaAs (001) gate stacks using surface engineering and thermal annealing | 作者: | Chang, YC Merckling, C Penaud, J Lu, CY Wang, WE Dekoster, J Meuris, M Caymax, M Heyns, M Kwo, J others MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2010 | 卷: | 97 | 起(迄)頁: | 112901 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/357471 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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