https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/358251
標題: | Halo profile engineering to reduce Vt fluctuation in high-K/metal-gate nMOSFET | 作者: | CHEE-WEE LIU Chen, W.-Y. Yu, T.-H. Ohtou, T. Sheu, Y.-M. Wu, J. CHEE-WEE LIU |
公開日期: | 2010 | 起(迄)頁: | 145-148 | 來源出版物: | International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices, SISPAD | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-78649534792&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/358251 |
DOI: | 10.1109/SISPAD.2010.5604546 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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