https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/365476
標題: | Zero dipole formation at HfGdO/SiO2 interface by Hf/Gd dual-sputtered method | 作者: | Wang, J.-C. Chou, P.-C. Lai, C.-S. Lin, J.-Y. Chang, W.-C. Lu, H.-C. Wu, C.-I. Wang, P.-S. CHIH-I WU |
公開日期: | 2011 | 卷: | 158 | 期: | 5 | 來源出版物: | Journal of the Electrochemical Society | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-79953227024&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/365476 |
DOI: | 10.1149/1.3554738 |
顯示於: | 光電工程學研究所 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。