https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/396596
標題: | Fast lithographic mask optimization considering process variation | 作者: | Su, Y.-H. Huang, Y.-C. Tsai, L.-C. Chang, Y.-W. Banerjee, S. YAO-WEN CHANG |
公開日期: | 2016 | 卷: | 35 | 期: | 8 | 起(迄)頁: | 1345-1357 | 來源出版物: | IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-84979609928&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/396596 |
DOI: | 10.1109/TCAD.2015.2514082 |
顯示於: | 電子工程學研究所 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。