https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/432528
標題: | Cavitation-resistant TiNi films deposited by using cathodic arc plasma ion plating | 作者: | He J.L. Won K.W. Chang C.T. Chen K.C. Lin H.C. HSIN-CHIH LIN |
公開日期: | 1999 | 出版社: | Elsevier Sequoia SA, Lausanne, Switzerland | 卷: | 233-235 | 起(迄)頁: | 104-110 | 來源出版物: | Wear | URI: | https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-0033368172&doi=10.1016%2fS0043-1648%2899%2900202-1&partnerID=40&md5=26ef1748dbcb62ca8ce72a43fad464c4 https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/432528 |
ISSN: | 00431648 | DOI: | 10.1016/S0043-1648(99)00202-1 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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