https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443406
標題: | Molecular beam epitaxy-grown Al<inf>2</inf>O<inf>3</inf>/HfO<inf>2</inf> high-庥 dielectrics for germanium | 作者: | Lee, W.C. Chin, B.H. Chu, L.K. Lin, T.D. Lee, Y.J. Tung, L.T. Lee, C.H. Hong, M. Kwo, J. MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2009 | 卷: | 311 | 期: | 7 | 起(迄)頁: | 2187-2190 | 來源出版物: | Journal of Crystal Growth | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443406 | DOI: | 10.1016/j.jcrysgro.2008.11.045 |
顯示於: | 物理學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。