https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443451
標題: | Interfacial self-cleaning in atomic layer deposition of HfO<inf>2</inf> gate dielectric on In<inf>0.15</inf>Ga<inf>0.85</inf>As | 作者: | Chang, C.-H. Chiou, Y.-K. Chang, Y.-C. Lee, K.-Y. Lin, T.-D. Wu, T.-B. Hong, M. Kwo, J. MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2006 | 卷: | 89 | 期: | 24 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443451 | DOI: | 10.1063/1.2405387 |
顯示於: | 物理學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。