https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443493
標題: | Wet chemical and plasma etching of Ga<inf>2</inf>O<inf>3</inf>(Gd<inf>2</inf>O<inf>3</inf>) | 作者: | Ren, F. Hong, M. Mannaerts, J.P. Lothian, J.R. Cho, A.Y. MINGHWEI HONG |
公開日期: | 1997 | 卷: | 144 | 期: | 9 | 起(迄)頁: | L239-L241 | 來源出版物: | Journal of the Electrochemical Society | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443493 | DOI: | 10.1149/1.1837929 |
顯示於: | 物理學系 |
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