https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/447958
標題: | Erratum to "Additional Nitrogen Ion-Implantation Treatment in STI to Relax the Intrinsic Compressive Stress for n-MOSFETs" | 作者: | Liao, M.-H. Chen, C.H. Chang, L.C. Yang, C. MING-HAN LIAO |
公開日期: | 2015 | 卷: | 62 | 期: | 4 | 起(迄)頁: | 1360- | 來源出版物: | IEEE Transactions on Electron Devices | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/447958 | DOI: | 10.1109/TED.2015.2405334 |
顯示於: | 機械工程學系 |
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