https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/447982
標題: | Gate width dependence on backscattering characteristics in the nanoscale strained complementary metal-oxide-semiconductor field-effect transistor | 作者: | Liao, M.H. Liu, C.W. Yeh, L. Lee, T.-L. CHEE-WEE LIU MING-HAN LIAO |
公開日期: | 2008 | 卷: | 92 | 期: | 6 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/447982 | DOI: | 10.1063/1.2839402 |
顯示於: | 機械工程學系 |
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