https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/448541
標題: | Recrystallized parylene as a mask for silicon chemical etching | 作者: | Lo, H.-W. Kuo, W.-C. Yang, Y.-J. Tai, Y.-C. YAO-JOE YANG |
公開日期: | 2008 | 起(迄)頁: | 881-884 | 來源出版物: | 3rd IEEE International Conference on Nano/Micro Engineered and Molecular Systems | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/448541 | DOI: | 10.1109/NEMS.2008.4484464 |
顯示於: | 機械工程學系 |
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