https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/451474
標題: | Fully model-based methodology for simultaneous correction of extreme ultraviolet mask shadowing and proximity effects | 作者: | Ng, P.C.W. Tsai, K.-Y. Lee, Y.-M. Wang, F.-M. Li, J.-H. KUEN-YU TSAI JIA-HAN LI |
公開日期: | 2011 | 卷: | 10 | 期: | 1 | 來源出版物: | Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/451474 | DOI: | 10.1117/1.3533222 |
顯示於: | 工程科學及海洋工程學系 |
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