https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/451907
標題: | Physical properties of an oxide photoresist film for submicron pattern lithography | 作者: | Chiang, D. Chang, C.-M. Chen, S.-W. Yang, C.-T. Hsueh, W.-J. WEN-JENG HSUEH |
公開日期: | 2013 | 卷: | 542 | 起(迄)頁: | 409-414 | 來源出版物: | Thin Solid Films | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/451907 | DOI: | 10.1016/j.tsf.2013.05.134 |
顯示於: | 工程科學及海洋工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。