https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/46965
標題: | Achieving a Low Interfacial Density of States with a Flat Distribution in High-kappa Ga2O3(Gd2O3) Directly Deposited on Ge | 作者: | Lin, Chunan Lin, Hanchung Chiang, Tsunghung Chu, Reilin Chu, Lungkun Lin, Tsungda Chang, Yaochung Wang, Wei-E Kwo, J.Raynien MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2011 | 起(迄)頁: | 111101 | 來源出版物: | Applied Physics Express | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/242895 | DOI: | 10.1143/APEX.4.111101 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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