https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491337
標題: | Reduction of polarization and swing effects in a high numerical aperture exposure system by utilizing resist antireflective coatings | 作者: | Chen, H.L. Lee, W.H. Fan, W. Chuang, S.Y. Lai, Y.H. Lee, C.C. HSUEN-LI CHEN |
公開日期: | 2009 | 卷: | 86 | 期: | 1 | 起(迄)頁: | 83-87 | 來源出版物: | Microelectronic Engineering | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491337 | DOI: | 10.1016/j.mee.2008.09.050 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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