https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491364
標題: | Fabrication of sub-60-nm contact holes in silicon dioxide layers | 作者: | Ko, F.-H. You, H.-C. Chu, T.-C. Lei, T.-F. Hsu, C.-C. Chen, H.-L. HSUEN-LI CHEN |
公開日期: | 2004 | 卷: | 73-74 | 起(迄)頁: | 323-329 | 來源出版物: | Microelectronic Engineering | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491364 | DOI: | 10.1016/S0167-9317(04)00119-4 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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