https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491366
標題: | Fabry-Perot type antireflective coatings for binary mask applications in ArF and F<inf>2</inf>excimer laser lithographies | 作者: | Chen, H.L. Lee, C.C. Chuang, Y.F. Liu, M.C. Hsieh, C.I. Ko, F.H. HSUEN-LI CHEN |
公開日期: | 2003 | 卷: | 6 | 期: | 4 | 來源出版物: | Electrochemical and Solid-State Letters | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491366 | DOI: | 10.1149/1.1560001 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。