https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491371
標題: | Fabry-Perot type antireflective coatings for binary mask applications in ArF and F <inf>2</inf> excimer laser lithographies | 作者: | Chen, H.L. Lee, C.C. Chuang, Y.F. Liu, M.C. Hsieh, C.I. Ko, F.H. HSUEN-LI CHEN |
公開日期: | 2003 | 卷: | 2 | 起(迄)頁: | 757- | 來源出版物: | Pacific Rim Conference on Lasers and Electro-Optics, CLEO - Technical Digest | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491371 | DOI: | 10.1109/CLEOPR.2003.1277293 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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