https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491398
標題: | Reduction of substrate alkaline contamination by utilizing multi-layer bottom antireflective coating structures in ArF lithography | 作者: | Chen, H.L. Shih, M.C. Hsieh, C.F. Chen, B.C. Ko, F.H. HSUEN-LI CHEN |
公開日期: | 2001 | 起(迄)頁: | 230-231 | 來源出版物: | 2001 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2001 | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491398 | DOI: | 10.1109/IMNC.2001.984174 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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