https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491490
標題: | Nucleation engineering for atomic layer deposition of uniform sub-10 nm high-K dielectrics on MoTe<inf>2</inf> | 作者: | Lin, Y.-S. Kwak, I. Chung, T.-F. Yang, J.-R. Kummel, A.C. MIIN-JANG CHEN |
公開日期: | 2019 | 卷: | 492 | 起(迄)頁: | 239-244 | 來源出版物: | Applied Surface Science | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491490 | DOI: | 10.1016/j.apsusc.2019.06.192 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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