https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491629
標題: | Band offsets and charge storage characteristics of atomic layer deposited high- k Hf O<inf>2</inf> Ti O<inf>2</inf> multilayers | 作者: | Maikap, S. Wang, T.-Y. Tzeng, P.-J. Lin, C.-H. Tien, T.C. Lee, L.S. Yang, J.-R. Tsai, M.-J. JER-REN YANG |
公開日期: | 2007 | 卷: | 90 | 期: | 26 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491629 | DOI: | 10.1063/1.2751579 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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