https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/497739
標題: | Comparison of Cl<inf>2</inf>and F-based dry etching for high aspect ratio Si microstructures etched with an inductively coupled plasma source | 作者: | Tian, W.-C. Weigold, J.W. Pang, S.W. WEI-CHENG TIAN |
公開日期: | 2000 | 卷: | 18 | 期: | 4 | 起(迄)頁: | 1890-1896 | 來源出版物: | Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/497739 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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