https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/546709
標題: | Paraelectric/antiferroelectric/ferroelectric phase transformation in As-deposited ZrO 2 thin films by the TiN capping engineering | 作者: | Wang, C.-Y. Wang, C.-I. Yi, S.-H. Chang, T.-J. Chou, C.-Y. Yin, Y.-T. Shiojiri, M. Chen, M.-J. MIIN-JANG CHEN |
公開日期: | 2020 | 卷: | 195 | 來源出版物: | Materials and Design | URI: | https://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-85089183561&partnerID=40&md5=d78313a17e46e45cb4dc4fe894f4e274 https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/546709 |
DOI: | 10.1016/j.matdes.2020.109020 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。