https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/575682
標題: | Aluminum Oxide at the Monolayer Limit via Oxidant-Free Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition on GaN | 作者: | A. Henning J. D. Bartl A. Zeidler S. Qian O. Bienek CHANG-MING JIANG C. Paulus B. Rieger M. Stutzmann I. D. Sharp |
公開日期: | 2021 | 起(迄)頁: | 2101441 | 來源出版物: | Advanced Functional Materials | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/575682 | DOI: | 10.1002/adfm.202101441 |
顯示於: | 化學系 |
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