https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/63303
標題: | 深次微米半導體化學機械研磨技術之研究─子計畫四:低介電常數高分子介電膜之化學機械研磨特性研究(1/2) | 作者: | 陳文章 | 公開日期: | 2000 | 出版社: | 臺北市:國立臺灣大學化學工程學系暨研究所 | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/9059 | 其他識別: | 20060725120103875327 | Rights: | 國立臺灣大學化學工程學系暨研究所 |
顯示於: | 化學工程學系 |
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