https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/73441
標題: | Charge storage characteristics of atomic layer deposited RuOx nanocrystals | 作者: | Maikap, S. Wang, T. Y. Tzeng, P. J. Lin, C. H. Lee, L. S. Yang, J. R. Tsai, M. J. |
公開日期: | 2007 | 卷: | 90 | 期: | 253108 | 起(迄)頁: | - | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/93246 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。