https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/81360
標題: | 奈米壓印微影設備技術-總計畫及子計畫一:奈米壓印之力學分析 | 作者: | 吳光鐘 | 關鍵字: | 奈米壓印;熱壓成型;有限元素法 | 公開日期: | 31-七月-2005 | 出版社: | 臺北市:國立臺灣大學應用力學研究所 | 摘要: | 本計畫運用有限元素法研究熱壓型奈米壓印過 程中,光阻高分子受壓變形的狀況。壓印是假設在玻 璃轉換溫度以上之恒溫進行,而光阻則以橡膠彈性材 料來模擬。文獻中類似研究皆有因網格變形過大而無 法進行較大深度之壓印的問題,本研究採用適應性網 格重建法(adaptive remeshing) 及更新拉格朗日法 (updated Lagrangian)來克服此一問題。藉由數值模 擬,本文探討模仁倒圓角半徑、光阻厚度及光阻與基 板間接觸條件對壓印成型所需壓力之影響,以為相關 設計之參考。 |
URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/21751 | 其他識別: | 932218E002013 | Rights: | 國立臺灣大學應用力學研究所 |
顯示於: | 應用力學研究所 |
檔案 | 描述 | 大小 | 格式 | |
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932218E002013.pdf | 362.56 kB | Adobe PDF | 檢視/開啟 |
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