公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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2007 | Effect of Al incorporation in the thermal stability of atomic-layer- deposited HfO<inf>2</inf> for gate dielectric applications | Chiou, Y.-K.; Chang, C.-H.; Wang, C.-C.; Lee, K.-Y.; Wu, T.-B.; Kwo, R.; MINGHWEI HONG | Journal of the Electrochemical Society |