公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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2001 | Properties of high 庥 gate dielectrics Gd<inf>2</inf>O<inf>3</inf> and Y<inf>2</inf>O<inf>3</inf> for Si | Kwo, J.; MINGHWEI HONG ; Kortan, A.R.; Queeney, K.L.; Chabal, Y.J.; Opila, R.L.; Muller, D.A.; Chu, S.N.G.; Sapjeta, B.J.; Lay, T.S.; Mannaerts, J.P.; Boone, T.; Krautter, H.W.; Krajewski, J.J.; Sergnt, A.M.; Rosamilia, J.M. | Journal of Applied Physics |