公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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1999 | Wide band gap silicon carbon nitride films deposited by electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition | Chen K.H.; Wu J.-J.; Wen C.Y.; Chen L.C.; Fan C.W.; Kuo P.F.; Chen Y.F.; YANG-FANG CHEN ; CHENG-YEN WEN ; LI-CHYONG CHEN | Thin Solid Films | 69 | 66 |