公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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1998 | 半導體關鍵設備研發(II)─子計畫一:快速熱處理機台自動化研究 | 胡振國 | ||||
1999 | 半導體關鍵設備研發(III)─子計畫一:快速熱處理機台自動化研究 | 胡振國 | ||||
1997 | 半導體關鍵設備研發─子計畫一:快速熱處理機台自動化研究(I) | 胡振國 | ||||
1999 | ─半導體關鍵設備研發-總計畫(III) | 胡振國 | ||||
1999 | 參加1998國際電子元件材料會議 | 胡振國 | ||||
2008 | 微電子工程學門研究發展及推動規劃(2/3) | 胡振國 | ||||
2008 | 微電子工程學門研究發展及推動規劃(3/3) | 胡振國 | ||||
1996 | 快速熱技術在矽金氧半元件制程之應用 | 胡振國 | ||||
2000 | 快速熱機台設備及製程研發(1/3)─子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究 | 胡振國 | ||||
2000 | 快速熱機台設備及製程研發(1/3)─總計畫 | 胡振國 | ||||
2001 | 快速熱機台設備及製程研發(2/3)─子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究 | 胡振國 | ||||
2001 | 快速熱機台設備及製程研發(2/3)─總計畫 | 胡振國 | ||||
2002 | 快速熱機台設備及製程研發(3/3)子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究(3/3) | 胡振國 | ||||
2002 | 快速熱機台設備及製程研發(3/3)總計畫 | 胡振國 | ||||
1999 | 快速熱氧化層製程對厚度均勻度及電特性影響之研究 | 胡振國 | ||||
2004 | 快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究 (2/3) | 胡振國 | ||||
2003 | 快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(1/3) | 胡振國 | ||||
2005 | 快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(3/3) | 胡振國 | ||||
1993 | 抗輻射快速熱再氧化氮化氧化層製程之研究 | 胡振國 | ||||
1991 | 抗輻射金氧半元件製程及電路輻射穩定度研究 | 胡振國 |