公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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2007 | Charge storage characteristics of atomic layer deposited RuOx nanocrystals | Maikap, S.; Wang, T. Y.; Tzeng, P. J.; Lin, C. H.; Lee, L. S.; Yang, J. R.; Tsai, M. J. | Applied Physics Letters | |||
2007 | HfO2/HfAlO/HfO2 nanolaminate charge trapping layers for high-performance nonvolatile memory device applications | Maikap, S.; Tzeng, P. J.; Wang, T. Y.; Lee, H. Y.; Lin, C. H.; Wang,? C. C.; Lee, L. S.; Yang, J. R.; Tsai, M. J. | Japanese Journal of Applied |