公開日期 | 標題 | 作者 | 來源出版物 | scopus | WOS | 全文 |
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2008 | A novel curve-fitting procedure for determining proximity effect parameters in electron beam lithography | Chun-Hung Liu; Hoi-Tou Ng; Philip C. W. Ng; Kuen-Yu Tsai; Shy-Jay Lin; Jeng-Horng Chen; KUEN-YU TSAI | Lithography Asia 2008 - Proc. SPIE | 5 | 0 |