2020 | The 2020 UV emitter roadmap | Amano, H.; Collazo, R.; De Santi, C.; Einfeldt, S.; Funato, M.; Glaab, J.; Hagedorn, S.; Hirano, A.; Hirayama, H.; Ishii, R.; Kashima, Y.; Kawakami, Y.; Kirste, R.; Kneissl, M.; Martin, R.; Mehnke, F.; Meneghini, M.; Ougazzaden, A.; Parbrook, P.J.; Rajan, S.; Reddy, P.; R?mer, F.; Ruschel, J.; Sarkar, B.; Scholz, F.; Schowalter, L.J.; Shields, P.; Sitar, Z.; Sulmoni, L.; Wang, T.; Wernicke, T.; Weyers, M.; Witzigmann, B.; Wu, Y.-R.; Wunderer, T.; Zhang, Y.; YUH-RENN WU | Journal of Physics D: Applied Physics | 267 | 239 | |
2020 | Overcoming the excessive compressive strain in AlGaN epitaxy by introducing high Si-doping in AlN templates | Huang, C.-Y.; Walde, S.; Tsai, C.-L.; Netzel, C.; Liu, H.-H.; Hagedorn, S.; Wu, Y.-R.; Fu, Y.-K.; Weyers, M.; YUH-RENN WU | Japanese Journal of Applied Physics | 14 | 14 | |