計畫
(Principal Investigator)


第 1 到 30 筆結果，共 30 筆。

啟始時間標題P-Investigator經費來源
20222至1奈米製程世代全繞閘極式CMOS元件之次波長極紫外光微影成像度增進及非理想幾何元件建模技術KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2022符合IT與OT資安規範之半導體製程具可擴充性與聯防性設計的虛實整合場域之資安自主檢測機制研究-符合IT與OT資安規範之半導體製程具可擴充性與聯防性設計的虛實整合場域之資安自主檢測機制研究(2/3)KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
20202奈米及以下製程世代水平與垂直全繞閘極式CMOS元件之次波長極紫外光微影成像度增進及非理想幾何元件建模技術KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2019半間距10奈米及以下製程世代水平與垂直全繞閘極式CMOS元件之奈米微影成像度增進及非理想幾何元件建模技術KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2019X-ray微影鄰近效應修正技術與高精度高深寬比元件製作應用KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2018半間距10奈米及以下製程世代水平與垂直全繞閘極式CMOS元件之奈米微影成像度增進及非理想幾何元件建模技術KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2018應用於次波長無光罩微影之數位光學引擎與解析度增進技術設計(1/2)KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2017半間距22奈米以下技術節點前瞻非化學放大式分子光阻之鄰近效應建模與運用KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2017半間距10奈米及以下製程世代水平與垂直全繞閘極式CMOS元件之奈米微影成像度增進及非理想幾何元件建模技術KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2017深紫外光微影照明系統鏡片量測技術與系統研發(2/2)KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2016應用於半間距11奈米及以下製程世代多閘式電晶體之奈米微影成像度增進及非矩形元件快速模擬技術KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2016半間距22奈米以下技術節點前瞻非化學放大式分子光阻之鄰近效應建模與運用KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2016深紫外光微影照明系統鏡片量測技術與系統研發(1/2)KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2015應用於半間距11奈米及以下製程世代多閘式電晶體之奈米微影成像度增進及非矩形元件快速模擬技術KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2015半間距22奈米以下技術節點前瞻非化學放大式分子光阻之鄰近效應建模與運用KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2014應用於半間距11奈米及以下製程世代多閘式電晶體之奈米微影成像度增進及非矩形元件快速模擬技術KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2014以矽載板為中介層之三維積體電路設計與測試自動化工具研發—子計畫三：以矽載板為中介層之三維積體電路的電阻、電容、電感模擬技術與工具研發(3/3)KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2013以矽載板為中介層之三維積體電路設計與測試自動化工具研發-子計畫三：以矽載板為中介層之三維積體電路的電阻、電容、電感模擬技術與工具研發(2/3)KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2012應用於11奈米及以下半間距製程世代多閘式電晶體之奈米微影成像度增進及非矩形元件快速模擬技術(I)KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2011次32奈米半間距微影製程考慮多重曝光之光罩設計自動化研究KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2010次32奈米半間距微影製程考慮多重曝光之光罩設計自動化研究KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2010前瞻與創新性研究/考慮次波長製程效應與其電性影響之積體電路佈局優化技術研發KUEN-YU TSAIMinistry of Education
2009次32奈米半間距微影製程考慮多重曝光之光罩設計自動化研究KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2009促進產學合作先導型研究計畫/電資學院/應用高性能運算與數位訊號處理技術之自動化光學檢測系統之研發KUEN-YU TSAIMinistry of Education
2008多電子束平行掃瞄微影系統設計-子計畫一：多電子束平行掃瞄系統之電磁透鏡、遮黑板與資料傳輸系統研發(III)KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2008次32奈米多重曝光微影專用光學鄰近修正演算法之前瞻研究KUEN-YU TSAIMinistry of Education
2007多電子束平行掃瞄微影系統設計-子計畫三：多電子束平行掃瞄系統之電磁透鏡、遮黑板與資料傳輸系統研發KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2006多電子束平行掃瞄微影系統設計-子計畫三：多電子束平行掃瞄系統之電磁透鏡、遮黑板與資料傳輸系統研發(I)KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2006深次微米IC設計,製造,與測試之半導體工程鏈研究-子計畫三：最佳化整合設計、製造和測試以提升大型積體電路的良率與性能(I)KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council
2006適用32奈米以下製程之高產能、低成本平行寫入無光罩微影技術初步研究KUEN-YU TSAINational Science and Technology Council